マグネトロンスパッタリング用Tiターゲット材

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：富田和夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-120961
公開番号（公開出願番号）：特開平6-306597
出願日： 1993年04月23日
公開日（公表日）： 1994年11月01日
要約：

【要約】【目的】長期に亘ってパーティクルの少ない成膜形成が可能なマグネトロンスパッタリング用Tiターゲット材を提供する。【構成】マグネトロンスパッタリング用Tiターゲット材が、スパッタ面の平面リング状のエロージョン部を、残りのスパッタ面中央部および外周縁部を構成する非エロージョン部に対して突出させ、かつ前記エロージョン部の表面粗さを0.1〜1μmRa(中心線平均粗さ)とし、前記非エロージョン部の表面粗さを2〜5μmRaとしてなる。

請求項（抜粋）：

スパッタ面の平面リング状のエロージョン部を、残りのスパッタ面中央部および外周縁部で構成された非エロージョン部に対して突出させ、かつ前記エロージョン部の表面粗さを0.1〜1μmRa(中心線平均粗さ)とし、前記非エロージョン部の表面粗さを2〜5μmRaとしたことを特徴とするマグネトロンスパッタリング用Tiターゲット材。

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開平2-236277
特開平4-173965
特開昭59-211575

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