特許
J-GLOBAL ID:200903066893869456

インラインプラズマ蒸着装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西澤 利夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-099880
公開番号(公開出願番号):特開平6-065724
出願日: 1993年04月26日
公開日(公表日): 1994年03月08日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】高品質、高性能な成膜を高い生産性で可能とし、かつ、多層膜の形成をも可能とするインラインプラズマ蒸着装置。【構成】装置ライン端部から区分された領域に基板21の取込み・取出し部23を有するとともに、ライン両端部には、パレット搬送中継エレベータ部24,25を配置し、ライン途中には、独立して真空排気を可能とした単位または複数の蒸着部26とその前後の真空排気部27a,27bとを配置し、また、真空室から取出された搬送パレット22(基板21を装着したもの)を取込み・取出部23に戻すリターン機構を備え、基板21を、蒸着部26および真空排気部27a,27bに連続的に上方通過させる搬送手段を有している、インラインプラズマ蒸着装置。
請求項(抜粋):
蒸発源供給手段と高周波励起手段およびこれら手段の上部に配置した基板保持手段とを備えた真空プラズマ蒸着装置であって、蒸発源供給手段は、駆動装置とこれに連結されて水平回動する円形保持板を有し、円形保持板には、その表面に回動軸と同心円状の蒸発源材料搭載部を配設し、また、高周波励起手段はコイル状電極を備えてなることを特徴とするプラズマ蒸着装置。
IPC (2件):
C23C 14/24 ,  C03C 17/245
引用特許:
審査官引用 (14件)
  • 特開昭63-050473
  • 特開平1-108364
  • 特開昭63-000475
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