特許

J-GLOBAL ID：200903066896597996

光学素子及び光学素子の製造方法

発明者： 山田 泰史
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 高野 明近 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-223592
公開番号（公開出願番号）：特開平11-064614
出願日： 1997年08月20日
公開日（公表日）： 1999年03月05日
要約：

【要約】【課題】 回折格子やスケール等の光学素子を大気雰囲気中で高速に製造できる製造方法及びその製造法で作成された光学素子を提供する。【解決手段】 高分子フィルム21を用意し(図2(A))、この高分子フィルム21の表面に反射膜22を付加し(図2(B))、得られた積層体に反射膜22と逆方向から選択的にレーザ光23を照射する(図2(C))。このとき、高分子フィルム21の表面はレーザアブレーション作用により加工されて格子が形成され、反射型光学素子24が得られる(図2(D))。レーザ加工部には、テーパ形状の側面と非加工部のフィルム面より粗い表面を持つ底面とにより溝が形成され、この溝形状により、加工部と非加工部の反射率が変化する。このような特性を利用することで、反射型光学素子24の光学的作用が得られる。

請求項（抜粋）：

格子形状を有する光学素子の製造方法において、少なくとも一部に反射層を有するフィルムにレーザ光を照射し、照射したレーザ光によるアブレーション作用により前記格子形状を形成することを特徴とする光学素子の製造方法。

IPC (4件)：

G02B 5/18 ,  B23K 26/00 ,  G01B 11/00 ,  G02B 5/00

FI (4件)：

G02B 5/18 ,  B23K 26/00 G ,  G01B 11/00 Z ,  G02B 5/00 Z