特許

J-GLOBAL ID：200903066899742938

気相合成ダイヤモンド薄膜の表面研磨方法

発明者： 足立 美紀
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社
代理人 (1件)： 富田 和夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-314925
公開番号（公開出願番号）：特開平11-151670
出願日： 1997年11月17日
公開日（公表日）： 1999年06月08日
要約：

【要約】【課題】 気相合成ダイヤモンド薄膜の表面に平滑性のすぐれた研磨面を形成する。【解決手段】 気相合成ダイヤモンド薄膜の表面を、水溶液中に5〜1000nmの平均粒径を有するSiO2 粉末が5〜40重量%の割合で分散分布し、かつ1〜200cPの粘度および8〜12.5のpHを有する研磨液を用い、軟質の人工または天然有機材料で構成された定盤平面に加圧当接し、前記定盤および/または前記薄膜を繰り返し相互平面移動させることにより研磨する。

請求項（抜粋）：

水溶液中に5〜1000nmの平均粒径を有する酸化珪素粉末が5〜40重量%の割合で分散分布し、かつ1〜200cPの粘度および8〜12.5のpHを有する研磨液を用い、気相合成ダイヤモンド薄膜の表面を、軟質の人工または天然有機材料で構成された定盤平面に加圧当接し、前記定盤および/または前記薄膜を繰り返し相互平面移動させることを特徴とする気相合成ダイヤモンド薄膜の表面研磨方法。

IPC (3件)：

B24B 53/00 ,  B24D 3/00 310 ,  B24D 3/00 320

FI (3件)：

B24B 53/00 C ,  B24D 3/00 310 D ,  B24D 3/00 320 B

引用特許：

審査官引用 (2件)

• シリカ分散液及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-242380   出願人：株式会社トクヤマ
• 特開昭59-107847