イオン源とイオン処理工程中の洗浄方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萼経夫 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-085773
公開番号（公開出願番号）：特開平11-329266
出願日： 1999年03月29日
公開日（公表日）： 1999年11月30日
要約：

【要約】【課題】イオン室の処理工程中に洗浄が可能となるようにしたイオン源及びその洗浄方法を提供すること。【解決手段】イオン源12は、イオン化ゾーン120 の境界を定めるチャンバー壁112,114,116 によって形成されるプラズマ室22と、イオン化可能なドーパントガスをプラズマ室22に導くためのドーパントガス発生源66及び第1機構部分68と、洗浄ガスをプラズマ室22に導くための洗浄ガス発生源182 及び第2機構部分184 と、ドーパントガスと洗浄ガスにエネルギーを与えてプラズマ室内にプラズマを形成するエキサイター130 とを含む。洗浄ガスの分離かつイオン化した構成要素をドーパントガスの分離かつイオン化した構成要素と反応させて、ドーパントガス内に含まれる要素をチャンバー壁に付着させないようにする。

請求項（抜粋）：

イオンビーム(44)を出力するためのイオン源(12)であって、イオン化ゾーン(120) の境界を定めるチャンバー壁(112,114,116) によって形成されるプラズマ室(22)と、イオン化可能なドーパントガスを前記プラズマ室に導くためのドーパントガス発生源(66)及び第1機構部(68)と、洗浄ガスを前記プラズマ室に導くための洗浄ガス発生源(182) 及び第2機構部(184) と、前記プラズマ室内に少なくとも部分的に配置され、前記ドーパントガスと前記洗浄ガスにエネルギーを与えて、前記プラズマ室内にプラズマを形成し、このプラズマが、前記ドーパントガス及び前記洗浄ガスのそれぞれが分離しかつイオン化した構成要素からなるようにするエキサイター(130) とを含み、前記洗浄ガスの分離かつイオン化した構成要素を前記ドーパントガスの分離かつイオン化した構成要素と反応させて、前記ドーパントガス内に含まれる要素によって前記チャンバー壁に被膜形成物を付着させないようにすることを特徴とするイオン源。

IPC (5件)：

H01J 27/02 , C23C 14/48 , H01J 37/08 , H01J 37/317 , H01L 21/265

FI (5件)：

H01J 27/02 , C23C 14/48 Z , H01J 37/08 , H01J 37/317 Z , H01L 21/265 603 A

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