特許
J-GLOBAL ID：200903066907186802
電子線照射方法及びその装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 昌久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-064814
公開番号（公開出願番号）：特開平11-248892
出願日： 1998年02月27日
公開日（公表日）： 1999年09月17日
要約：
【要約】【課題】 食品や飲料容器等の被照射物に電子線を所定方向に繰り返しビーム走査しながら照射し殺菌等の所期の目的を達成するものにおいて、照射方向各部位の電子線吸収量の均一化を可能とし得る電子線照射方法及びその装置を提供することを目的とする。【解決手段】 前記走査電子線が出射される照射窓部を、被照射物の少なくとも一部を囲繞する凹設部位で形成し、前記被照射物より照射される電子線を偏向する方向に磁力線を加える電子線偏向用の磁石体を具えるとともに、前記照射窓の凹設部位が直線状の面の組合せで形成されている。
請求項（抜粋）：
負圧(真空)空間内で電子線を走査する走査体の照射窓部より出射される走査電子線を、食品や飲料容器等の立体形状の被照射物に繰り返し照射しながら殺菌等の所期の目的を達成する電子線照射方法において、前記走査電子線が出射される照射窓部を凹設し、該凹設空間内に被照射物を配置した状態で、該照射窓の凹設部位より出射される電子線を前記被照射物に照射させることを特徴とする電子線照射方法。
IPC (5件)：
G21K 5/00
, A61L 2/08
, G21K 1/093
, G21K 5/04
, H01J 37/317
G21K 5/00 W
, A61L 2/08
, G21K 1/093 S
, G21K 5/04 E
, H01J 37/317 Z
