特許
J-GLOBAL ID：200903066908452654
高純度透明シリカガラスの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-109045
公開番号（公開出願番号）：特開平9-295826
出願日： 1996年04月30日
公開日（公表日）： 1997年11月18日
要約：
【要約】【課題】本発明の目的は、光透過性を利用する各種光学材料、高温型液晶基板などの用途、また高温で長時間使用する半導体製造用治具などの用途に適する気泡の存在しない高純度透明シリカガラスの製造方法を提供することにある。【解決手段】アルカリ金属ケイ酸水溶液と酸とを反応させて得たシリカを精製することにより、Na,K,Mg,Ca,Fe,Alの各不純物を1ppm以下とした高純度非晶質シリカ粉末を出発原料とし、これを10torr以下の減圧雰囲気中でクリストバライト溶融温度1713°C以上の温度におき、直径1mm以上の気泡を消滅させた透明シリカガラスとする工程とこのガラスに熱間静水圧プレス装置を用い、1200〜1350°Cの温度範囲で100〜200MPaのAr又はN2ガス圧力を作用させ、ガラス中の直径1mm未満の気泡を消滅させる工程とからなる高純度透明シリカガラスの製造方法。
請求項（抜粋）：
アルカリ金属ケイ酸水溶液と酸とを反応させて得たシリカを精製することにより、Na,K,Mg,Ca,Fe,Alの各不純物を1ppm以下とした高純度非晶質シリカ粉末を出発原料とし、これを10torr以下の減圧雰囲気中でクリストバライト溶融温度1713°C以上の温度におき、直径1mm以上の気泡を消滅させた透明シリカガラスとする工程とこのガラスに熱間静水圧プレス装置を用い、1200〜1350°Cの温度範囲で100〜200MPaのAr又はN2ガス圧力を作用させ、ガラス中の直径1mm未満の気泡を消滅させる工程とからなる高純度透明シリカガラスの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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