特許
J-GLOBAL ID:200903066910246107
露光装置及びそれを用いた製造方法並びに電子部品
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
佐々木 晴康 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-147199
公開番号(公開出願番号):特開2001-330963
出願日: 2000年05月19日
公開日(公表日): 2001年11月30日
要約:
【要約】【課題】 電子部品の製造において、モデルが変更される毎にレチクルを作製する課題の解決とコストダウンを図るために、レチクルの使用量を最小化させまた、多品目、多層のマスクパターンに対して対応できる装置が要望されていた。【解決手段】 複数の電磁エネルギ源を有する露光装置により、レチクルのパターンを基板に照射する電磁エネルギ源と、レチクル以外のパターンを基板に照射する電磁エネルギ源とに切替える。これにより、最小限のレチクル量でパターン形成を行い、多品目、多層のパターンに対して対応でき、レチクル洗浄、保管管理コストと、併せてレチクルの作製時間と材料費も削減可能な露光装置を提供する。
請求項(抜粋):
複数の電磁エネルギ源を有する露光装置において、レチクルのパターンを基板に照射する電磁エネルギ源と、レチクル以外のパターンを基板に照射する電磁エネルギ源が異なることを特徴とする露光装置。
IPC (5件):
G03F 7/20 501
, G03F 1/14
, G09F 9/00 346
, G09F 9/40
, H01L 21/027
FI (5件):
G03F 7/20 501
, G03F 1/14 M
, G09F 9/00 346 A
, G09F 9/40 C
, H01L 21/30 503 A
Fターム (25件):
2H095BE12
, 2H097CA12
, 2H097CA13
, 2H097KA13
, 2H097LA10
, 2H097LA11
, 2H097LA12
, 5C094AA43
, 5C094AA44
, 5C094BA03
, 5C094BA43
, 5C094CA19
, 5C094GB10
, 5F046AA11
, 5F046AA25
, 5F046CB17
, 5F046CC02
, 5F046CC13
, 5F046DA06
, 5G435AA17
, 5G435CC09
, 5G435GG21
, 5G435KK05
, 5G435KK09
, 5G435KK10
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