特許

J-GLOBAL ID：200903066924068422

レジスト剥離液組成物

発明者： 池本 一人 ,  山田 健二
出願人/特許権者： 三菱瓦斯化学株式会社
代理人 (1件)： 永井 隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-026498
公開番号（公開出願番号）：特開2004-239986
出願日： 2003年02月03日
公開日（公表日）： 2004年08月26日
要約：

【課題】【発明が解決しようとする課題】レジスト残渣物を低温、短時間で完全に除去できるフォトレジスト剥離剤を提供すること。【解決手段】ヒドロキシカルボン酸エステルとフッ素化合物と水から成ることを特徴とするレジスト剥離液組成物。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

フッ素化合物、ヒドロキシカルボン酸エステル及び水とから成ることを特徴とするレジスト剥離液組成物。

IPC (3件)：

G03F7/42 ,  H01L21/027 ,  H01L21/304

FI (3件)：

G03F7/42 ,  H01L21/304 647A ,  H01L21/30 572B

Fターム (5件)：

2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096LA03 ,  2H096LA16 ,  5F046MA02