荷電粒子ビーム露光装置及びそのクリーニング方法

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：伊東忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-138755
公開番号（公開出願番号）：特開平6-325709
出願日： 1993年06月10日
公開日（公表日）： 1994年11月25日
要約：

【要約】【目的】本発明は、継続的に安定して広範囲にプラズマを発生させて、オーバーホールすることなく効率的、かつ効果的にクリーニングが行なえる荷電粒子ビーム露光装置およびそのクリーニング方法を提供することを目的とする。【構成】露光すべき試料に荷電粒子ビームを照射して該試料にパターンを形成する荷電粒子ビーム露光装置において、装置内部に酸素を主成分とするガスを導入し、露光時に偏向を行なう複数の電極に高周波信号を印加して内部にプラズマを発生させ内部の堆積物を除去する。

請求項（抜粋）：

露光すべき試料に荷電粒子ビームを照射して該試料にパターンを形成する荷電粒子ビーム露光装置において、荷電粒子ビームの光軸を取り囲むように設置した複数の電極(D1-D8、71、90、92、107、108、401〜404、501〜508)と、クリーニング時、該複数の電極とクリーニングすべき荷電粒子ビーム露光装置内部に酸素を主成分とするガスを導入し、0.1Torr-4Torrの真空度に保持する第1の手段(M3)と、クリーニング時、前記複数の電極の各々に100kHz-800kHzの範囲内の周波数の高周波信号と接地電位のいずれかを選択的に印加する第2の手段(M2)とを有し、前記荷電粒子ビーム露光装置内部に前記ガスのプラズマ・ラジカル状態を発生させて内部の堆積物をエッチング除去する特徴とする荷電粒子ビーム露光装置。

IPC (5件)：

H01J 37/06 , H01J 37/147 , H01J 37/305 , H01L 21/027 , H05H 1/46

引用特許：

出願人引用 (8件)

特開昭63-173325
特開昭63-156533
特開昭61-059826

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審査官引用 (18件)

特開平3-019314
特開平3-019314
特開平3-265119

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