特許
J-GLOBAL ID：200903066929333094
フオトマスクおよびそれを用いた露光方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-234488
公開番号（公開出願番号）：特開平5-072717
出願日： 1991年09月13日
公開日（公表日）： 1993年03月26日
要約：
【要約】【目的】 二度露光プロセスのスループット向上およびマスク合わせ精度の向上を図る。【構成】 離間して配置された一群の遮光パターン3aの間の光透過領域の一部に位相シフタ4を設けた第一のパターンAと、前記第一のパターンAの光透過領域と位相シフタ4の端部とが重なる領域を光透過領域とする遮光パターン3bからなる第二のパターンBとを同一ガラス基板2に形成した位相シフト用フォトマスク1である。
請求項（抜粋）：
離間して配置された一群の遮光パターンの間の光透過領域の一部に位相シフタを設けた第一のパターンと、前記第一のパターンの光透過領域と前記位相シフタの端部とが重なる領域を光透過領域とする遮光パターンからなる第二のパターンとを同一ガラス基板に設けたことを特徴とするフォトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
