特許
J-GLOBAL ID:200903066936199786
フォトレジスト組成物
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
佐伯 憲生
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-291463
公開番号(公開出願番号):特開平10-186651
出願日: 1997年09月18日
公開日(公表日): 1998年07月14日
要約:
【要約】【課題】 本発明は新規なフォトレジストの調製法を提供する。【解決手段】 全てのモノマー、及び重合の結果として生じたポリマーを溶解する溶媒の中でアクリルモノマーを重合することを特徴とする、アクリル樹脂フォトレジスト組成物とその製造方法に関する。前記の溶媒を使用することにより、前記樹脂の反応混合物から回収することなく、フォトレジストの調製物の中で使用するのに好適なアクリル樹脂を形成できる。このようなポリマーから調製されたフォトレジストは、特に193nm以下の露光において向上した透明度を持つ。
請求項(抜粋):
アクリル樹脂塗膜の形成方法であって、モノマー、該モノマーの重合により形成されるアクリレートポリマー、及び反応混合物の中で使用される添加剤を溶解できる溶媒の中に、1種以上のアクリレートモノマーを溶解する工程、有機ラジカル開始剤の存在で該溶解されたアクリレートモノマーを加熱して該アクリレートモノマーを重合する工程、並びに、該反応溶液から該アクリレートポリマーを回収することなく反応混合物を表面にキャスティングする工程、の各工程から成ることを特徴とするアクリル樹脂塗膜の形成方法。
IPC (3件):
G03F 7/027 502
, C09D 4/06
, G03F 7/004 501
FI (3件):
G03F 7/027 502
, C09D 4/06
, G03F 7/004 501
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