特許

J-GLOBAL ID：200903066938119429

修飾シクロデキストリン及び修飾シクロデキストリンから成るナノサイズ微粒子

発明者： 小高 正人 ,  江口 優 ,  杜 永忠 ,  平 修
出願人/特許権者： 独立行政法人産業技術総合研究所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-297009
公開番号（公開出願番号）：特開2006-104423
出願日： 2004年10月08日
公開日（公表日）： 2006年04月20日
要約：

【課題】 新規化合物アミノアルキルカルバモイルシクロデキストリン、イミダゾールカルバモイル-シクロデキストリン、ポリエチレングリコール-アミノアルキルカルバモイルシクロデキストリン及びこれを用いた機能性微粒子を提供する。【解決手段】一般式【化5】(式中、a、b、cは整数であり、x=6、7、8の何れかの整数である。mは、2〜10の整数である。)で表わされるシクロデキストリン誘導体及びこれを用いた機能性微粒子。 【選択図】図2

請求項（抜粋）：

一般式

IPC (1件)：

C08B 37/16

FI (1件)：

C08B37/16

Fターム (10件)：

4C090AA02 ,  4C090BA10 ,  4C090BA11 ,  4C090BB04 ,  4C090BB12 ,  4C090BB32 ,  4C090BB53 ,  4C090BB62 ,  4C090BD31 ,  4C090DA23

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 架橋シクロデキストリン高分子の合成方法と、該高分子によるコレステロールの除去
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-032562   出願人：小宮山真
• 不溶性シクロデキストリンポリマーの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-255816   出願人：神奈川県

審査官引用 (4件)

• 汚染物質除去用のシクロデキストリンをベースとする架橋ポリマー
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2003-582195   出願人：シーマルコニテクノロジーズディダヴリュー.ツミアッティエス.エー.エス.
• 特開平4-106101
  
• 特開昭63-243101
  
• 特開昭60-248729
  

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Science and Technology of Advanced Materials, 200405, 5(3), 363-369