特許
J-GLOBAL ID:200903066940810201
整列メソポーラス型薄フィルム
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
廣江 武典
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-512640
公開番号(公開出願番号):特表2001-517595
出願日: 1998年09月25日
公開日(公表日): 2001年10月09日
要約:
【要約】【課題】着層処理中に形成される整列ミセルまたは液晶有機-無機プレカーサ構造から得られた、高度に規則正しく整列した微小構造と多孔性とを備えたサポートフィルムの製造方法を提供すること。【解決手段】本願発明は、着層処理中に形成される整列ミセルまたは液晶有機-無機プレカーサ構造から得られた、高度に規則正しく整列した微小構造と多孔性とを備え、約0.8〜20nmの孔サイズを有したサポートフィルムの製造方法に関し、ユニークな範囲の微小構造と同一モードの孔サイズを備えた、透明で、100〜500nm厚のフィルムが連続コーティング工程で形成される。これらフィルムの利用形態は、センサー、膜、低誘電率内部層、反射防止コーティング剤及びレンズ補助材等々である。
請求項(抜粋):
メソ構造フィルム(mesostructured films)の製造法であって、 a)酸化金属、水、有機溶剤、界面活性剤及び酸性または塩基性(base)触媒から成る溶解性物質源を含んだプレカーサゾルを製造するステップであって、該界面活性剤の濃度Coは臨界ミセル濃度よりも大幅に小さく、該界面活性剤は遊離界面活性剤として存在していることを特徴とするステップと、 b)前記プレカーサゾルをサブストレート上に着層処理するステップであって、溶剤の揮発と水の蒸発によって前記メソ構造フィルムを該サブストレート表面に着層させ、該メソ構造フィルムは、2θ=2°〜6°の範囲の六角状、立方体状または薄膜状(lamellar)電子回析パターンでのXRDピークで特定されることを特徴とするステップと、を含んでいることを特徴とする製造法。
IPC (3件):
C01B 37/00
, B01J 29/04
, C01B 39/02
FI (3件):
C01B 37/00
, B01J 29/04
, C01B 39/02
Fターム (54件):
4G069AA08
, 4G069AA09
, 4G069BA01A
, 4G069BA01B
, 4G069BA02A
, 4G069BA02B
, 4G069BA04A
, 4G069BA04B
, 4G069BA05A
, 4G069BA05B
, 4G069BA37
, 4G069CD10
, 4G069DA05
, 4G069EA08
, 4G069EB17Y
, 4G069EE01
, 4G069FC04
, 4G069FC06
, 4G069FC07
, 4G069ZA01A
, 4G069ZA01B
, 4G069ZA11B
, 4G069ZB08
, 4G069ZB09
, 4G069ZC01
, 4G069ZE03
, 4G073BA20
, 4G073BA21
, 4G073BA57
, 4G073BA63
, 4G073BA75
, 4G073BB58
, 4G073BC02
, 4G073BD06
, 4G073BD18
, 4G073CZ01
, 4G073CZ13
, 4G073DZ04
, 4G073DZ08
, 4G073FA15
, 4G073FC18
, 4G073FC19
, 4G073FC23
, 4G073FC25
, 4G073FC27
, 4G073FD14
, 4G073FD24
, 4G073GA08
, 4G073GA13
, 4G073GB04
, 4G073UA01
, 4G073UB11
, 4G073UB14
, 4G073UB26
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