特許

J-GLOBAL ID：200903066941112370

研磨剤の保管方法及び研磨方法

発明者： 中村 亘 ,  岸井 貞浩 ,  有本 由弘
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-003180
公開番号（公開出願番号）：特開平10-193255
出願日： 1997年01月10日
公開日（公表日）： 1998年07月28日
要約：

【要約】【課題】 分散された砥粒が凝集して研磨速度の経年変化をもたらす研磨剤の保管方法に関し,【解決手段】 静置して保管された研磨剤に超音波振動を加えた後に砥粒の平均粒径を測定し,その平均粒径を監視することで研磨速度を管理する。また,加えて研磨剤の酸化還元電位を監視することで研磨速度を管理する。超音波振動印加後の平均粒径から研磨速度の恒久的な変化を知ることができる。また,超音波振動印加後の平均粒径と酸化還元電位とから金属の化学的機械研磨剤の研磨速度を知ることができる。

請求項（抜粋）：

液体中に分散された砥粒が時間経過とともに凝集して研磨速度が変動する研磨剤の保管方法において,超音波振動を該研磨剤に加えた後に該砥粒の平均粒径を測定し,該平均粒径を監視することで該研磨速度を管理することを特徴とする研磨剤の保管方法。

IPC (2件)：

B24B 37/00 ,  H01L 21/304 321

FI (2件)：

B24B 37/00 H ,  H01L 21/304 321 P