特許
J-GLOBAL ID:200903066941895286
低反射膜と低反射膜形成用塗料及び低反射膜付き基材
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (7件):
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 渡邊 隆
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 西 和哉
, 村山 靖彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-131951
公開番号(公開出願番号):特開2006-308898
出願日: 2005年04月28日
公開日(公表日): 2006年11月09日
要約:
【課題】低屈折率フィラーである多孔質シリカを用いることにより、ヘイズが低く、1.5%以下の視感度反射率を有し、しかも耐擦傷性に優れた低反射膜と低反射膜形成用塗料及び低反射膜付き基材を提供する。【解決手段】空孔5が形成された多孔質シリカ4を、この空孔の開口端を覆う高分子量ケイ素化合物3中に分散させるか、または、この空孔の開口端を覆う高分子量ケイ素化合物を含有し、多孔質シリカを前記高分子量ケイ素化合物より分子量の小さい低分子量ケイ素化合物中に分散させることとすれば、低反射膜のヘイズが低く、1.5%以下の視感度反射率を有し、しかも耐擦傷性に優れた効果を得ることができる。【選択図】図2
請求項(抜粋):
空孔が形成された多孔質シリカと、前記空孔の開口端を覆う高分子量ケイ素化合物とを含有してなることを特徴とする低反射膜。
IPC (8件):
G02B 1/10
, C08K 7/26
, C08L 83/04
, C09D 5/00
, C09D 7/12
, C09D 183/00
, C09D 183/02
, G02B 1/11
FI (8件):
G02B1/10 Z
, C08K7/26
, C08L83/04
, C09D5/00 Z
, C09D7/12
, C09D183/00
, C09D183/02
, G02B1/10 A
Fターム (18件):
2K009AA04
, 2K009AA15
, 2K009CC09
, 2K009CC24
, 2K009CC42
, 2K009DD02
, 4J002CP031
, 4J002CP032
, 4J002DJ016
, 4J002FB266
, 4J002FD026
, 4J002GP00
, 4J038DL021
, 4J038HA446
, 4J038MA14
, 4J038NA11
, 4J038NA19
, 4J038PB08
引用特許:
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