特許

J-GLOBAL ID：200903066961453620

ガス希釈装置

発明者： 有田 佳彦
出願人/特許権者： 株式会社堀場製作所
代理人 (1件)： 藤本 英夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-034214
公開番号（公開出願番号）：特開2002-243599
出願日： 2001年02月09日
公開日（公表日）： 2002年08月28日
要約：

【要約】【課題】 高純度な希釈ガスや高価な流量制御装置を用いなくとも、成分ガスを無段階に任意の希釈倍率にしかも精度よく希釈することができるガス希釈装置を提供すること。【解決手段】 希釈対象の成分ガスCGが供給されるガス流路5に第1および第2のガス濃度測定器8,11を設けるとともに、これらのガス濃度測定器8,11の間にガス吸着管12を設け、前記二つのガス濃度測定器8,11の出力の比a2 /a1 を演算し、この演算結果に基づいて前記ガス吸着管12の温度調節を行ってガス吸着管12における前記成分ガスCGの吸着量の制御を行うようにした。

請求項（抜粋）：

希釈対象の成分ガスが供給されるガス流路に第1および第2のガス濃度測定器を設けるとともに、これらのガス濃度測定器の間にガス吸着管を設け、前記二つのガス濃度測定器の出力の比を演算し、この演算結果に基づいて前記ガス吸着管の温度調節を行ってガス吸着管における前記成分ガスの吸着量の制御を行うようにしたことを特徴とするガス希釈装置。

IPC (6件)：

G01N 1/22 ,  G01N 1/00 101 ,  G01N 5/02 ,  G01N 27/62 ,  G01N 29/02 ,  G01N 30/06

FI (7件)：

G01N 1/22 M ,  G01N 1/22 L ,  G01N 1/00 101 S ,  G01N 5/02 A ,  G01N 27/62 F ,  G01N 29/02 ,  G01N 30/06 C

Fターム (4件)：

2G047AA01 ,  2G047AD02 ,  2G047BC02 ,  2G047BC15