特許
J-GLOBAL ID:200903066975576473

膜厚測定装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 吉田 茂明 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-181813
公開番号(公開出願番号):特開平9-033222
出願日: 1995年07月18日
公開日(公表日): 1997年02月07日
要約:
【要約】【目的】 被測定試料SP面の傾斜に拘らず、基板上の薄膜の膜厚を再現性良く測定可能とする膜厚測定装置を提供すること。【構成】 照明光学系20が光源HL,DLの輝度分布の波長依存性を補償するガラスロッドGLを有するので、被測定試料SPが傾斜して反射光のケラレが生じることによって反射光のエネルギーが減少した場合にも、分光ユニット40に入射する反射光のスペクトルの分布状態がほぼ維持される。したがって、制御ユニット50において、分光ユニット40の出力に基づいて決定した実測相対反射率の平均値に対する検量線相対反射率の平均値の比を実測相対反射率に掛けるデータ変換を行った後に両者の偏差を求めれば、被測定試料SPの傾斜の影響を防止して正確に膜厚測定を行うことが可能となる。
請求項(抜粋):
光源を有し、基板上に薄膜を形成した被測定試料を照明する照明系と、前記被測定試料から反射された反射光を集束する結像系と、当該結像系からの前記反射光を分光して検出する分光系と、当該分光系の出力に基づいて特定の波長毎に前記薄膜の反射率を実測分光反射率として求め、前記薄膜の光学データに基づいて特定の波長毎に理論的に求められた検量線分光反射率との比較によって前記薄膜の膜厚を決定する演算手段とを備える膜厚測定装置において、前記照明系は、前記光源の輝度分布の波長依存性を補償する2次光源形成手段を有し、前記演算手段は、前記実測分光反射率の平均値と検量線分光反射率の平均値とが等しくなるように前記実測分光反射率及び前記検量線分光反射率の少なくとも一方をデータ変換した後に前記薄膜の膜厚を決定することを特徴とする膜厚測定装置。

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