特許

J-GLOBAL ID：200903066978876753

臭素化合物溶液の処理方法

発明者： 竹谷 豊
出願人/特許権者： 帝人化成株式会社
代理人 (1件)： 前田 純博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-320428
公開番号（公開出願番号）：特開2000-080055
出願日： 1998年11月11日
公開日（公表日）： 2000年03月21日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 工程の操作が少なく時間が短い、特定臭素化合物溶液中の臭素処理方法を提供する。【解決手段】 一般式1の臭素化合物および臭素を含む溶液と還元剤を含む水溶液とを混合して臭素を還元処理する方法において、臭素化合物および臭素を含む溶液と該還元剤を含む水溶液とをフローミキサーに導入し混合した後ミキサーから混合溶液を撹拌槽に投入する臭素化合物溶液の処理方法。(Ar1とAr2は同一または異なり、C5〜16の芳香族またはC5〜12の飽和脂環式炭化水素基を表し、これらは1個以上のハロゲンにより置換されてもよく、YはC1〜6の飽和炭化水素基、スルフォン基、スルフィド基、ケトン基、C2〜6のアルキレンオキシド基または単結合を表し、R1とR2は同一または異なり、C2〜11の炭化水素基を表し、pとqは0〜10の整数、p+qは1以上の整数を表す。)

請求項（抜粋）：

下記式(1)で示される臭素化合物および臭素を含む溶液と還元剤を含む水溶液とを混合して、臭素を還元し処理する方法において、該臭素化合物および臭素を含む溶液と該還元剤を含む水溶液とをフローミキサーに導入し、混合させ、その後該フローミキサーから導出した混合溶液を撹拌槽に投入することを特徴とする臭素化合物溶液の処理方法。【化1】(式中Ar1およびAr2は同一または異なっていてもよく、炭素数5〜16の芳香族炭化水素基または炭素数5〜12の飽和脂環式炭化水素基を表し、これら炭化水素基は少なくとも1個のハロゲン原子により置換されていてもよく、Yは炭素数1〜6の飽和炭化水素基、スルフォン基、スルフィド基、ケトン基、炭素数2〜6のアルキレンオキシド基または単結合を表し、R1およびR2は同一または異なっていてもよく、炭素数2〜11の炭化水素基を表し、pおよびqはそれぞれ0〜10の整数であり、(p+q)は1以上の整数を表す。)

IPC (3件)：

C07C 41/34 ,  C07C 41/44 ,  C07C 43/225

FI (3件)：

C07C 41/34 ,  C07C 41/44 ,  C07C 43/225 A

Fターム (11件)：

4H006AA02 ,  4H006AC13 ,  4H006BB11 ,  4H006BB12 ,  4H006BC31 ,  4H006BE24 ,  4H006BE27 ,  4H006BE53 ,  4H006BE63 ,  4H006BE90 ,  4H006GP03