特許
J-GLOBAL ID:200903066981314359

発光ダイオード及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 京本 直樹 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-296513
公開番号(公開出願番号):特開平7-153991
出願日: 1993年11月26日
公開日(公表日): 1995年06月16日
要約:
【要約】【目的】発光ダイオードの発光効率を改善すること。【構成】n型GaAs基体1の(100)面にエピタキシャル成長したn型GaAs層2表面に凹凸を設け、その上にP型GaAsエピタキシャル層3aを液相エピタキシャル法により連続成長させる。屈折率の格子により、内部での光の反射、回折が起こり、外部に出やすくなる。
請求項(抜粋):
表面に凹凸のある第1導電型半導体基板と、前記表面に接合する第2導電型半導体層とを有していることを特徴とする発光タイオード。
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 特開昭53-000088

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