特許
J-GLOBAL ID：200903066982673719
薄膜製造装置
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
鈴木 敏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-245531
公開番号（公開出願番号）：特開平5-148630
出願日： 1991年09月25日
公開日（公表日）： 1993年06月15日
要約：
【要約】【目的】 1個のガンを用いて複数の材料を含む組成をもつ薄膜を製造する装置。【構成】 異なる材料からなる複数のターゲット(10,12,14)を1個のガン(8)に装着する。各ターゲットに、目的とする薄膜の組成材料のスパッタ率および組成比にもとづき決定される比で電圧を夫々に印加する。
請求項（抜粋）：
ウエハとターゲットを装着したガンとを対向させて内蔵する不活性ガスを充填される真空容器および上記ウエハとターゲット間に所定の電圧を印加するための電源手段を有する薄膜製造装置および上記ガンは複数の異なるターゲットが取り付け可能であること、および上記電源手段は上記複数のターゲットの印加電圧を別々に制御可能であること、を特徴とする、薄膜製造装置。
IPC (5件)：
C23C 14/34
, C23C 14/54
, H01L 21/203
, H01L 21/285
, H01L 21/31
