特許

J-GLOBAL ID：200903066985987684

逆浸透膜処理方法

発明者： 田村 真紀夫 ,  真保 明年
出願人/特許権者： オルガノ株式会社
代理人 (1件)： 若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-315708
公開番号（公開出願番号）：特開平7-163979
出願日： 1993年12月16日
公開日（公表日）： 1995年06月27日
要約：

【要約】【目的】 シリカの析出を防止しながら被処理水を高回収率で逆浸透膜処理する。【構成】 少くとも硬度成分及びシリカを含有する被処理水を逆浸透膜処理して透過水と濃縮水とに分離する逆浸透膜処理方法において、前記濃縮水のpHを6以下に保って逆浸透膜処理をする。

請求項（抜粋）：

少くとも硬度成分及びシリカを含有する被処理水を逆浸透膜処理して透過水と濃縮水とに分離する逆浸透膜処理方法において、前記濃縮水のpHを6以下に保って逆浸透膜処理をすることを特徴とする逆浸透膜処理方法。

IPC (2件)：

C02F 1/44 ,  B01D 61/12

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭59-090688
  
• 特開昭62-061691
  
• 特開昭52-149271