特許

J-GLOBAL ID：200903066986293856

レチクル

発明者： 伊藤 勝志
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 章夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-121054
公開番号（公開出願番号）：特開2001-296650
出願日： 2000年04月17日
公開日（公表日）： 2001年10月26日
要約：

【要約】【課題】 矩形パターンを露光するためのレチクルにおいて、露光工程を煩雑化することなく、しかも高精度なパターン露光を可能にしたレチクルを提供する。【解決手段】 第1の透明基板101の表面に光透過率の低い材料で第1のパターン102が形成された第1基板100と、第2の透明基板201の表面に所要の光透過率の材料で第2のパターン202が形成された第2基板200とを備え、前記第1のパターン102と前記第2のパターン202とを向かい合わせにして前記第1基板100と第2基板200とを接合材料301等により一体化し、前記第1のパターン102と第2のパターン202との重なる矩形パターンPの領域を遮光パターンとして構成する。矩形パターンPの角部は、第1のパターン102と第2のパターン202の辺の交差によって構成されるので、従来のようにレチクルに光不透過膜を用いて矩形パターンを形成する場合のような、パターン寸法の縮小に伴って角部が丸くなるようなこともなく、高精度な矩形パターンのレチクルを得ることができる。

請求項（抜粋）：

第1の透明基板の表面に光透過率の低い材料で第1のパターンが形成された第1基板と、第2の透明基板の表面に所要の光透過率の材料で第2のパターンが形成された第2基板とを備え、前記第1のパターンと前記第2のパターンとを向かい合わせにして前記第1基板と第2基板とを一体化し、前記第1のパターンと第2のパターンとが重なる領域を遮光パターンとして構成したことを特徴とするレチクル。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 1/08 K ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (5件)：

2H095BB02 ,  2H095BC09 ,  2H095BC10 ,  2H095BC11 ,  2H095BC28