特許
J-GLOBAL ID：200903067003096770

被膜の形成方法、該方法によって得られる被膜、反射防止膜及び光触媒膜

発明者：
稲垣 正爾

稲垣 正爾 について

, 
岩下 勝行

岩下 勝行 について


出願人/特許権者：
大日本インキ化学工業株式会社

大日本インキ化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 高橋 勝利
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-139958
公開番号（公開出願番号）：特開2003-327911
出願日： 2002年05月15日
公開日（公表日）： 2003年11月19日
要約：
【要約】【課題】 ゾルゲル法を使用せずに、低温での硬化性に優れ、高温耐水性及び表面強度にも優れた無機被膜を提供すること。【解決手段】 (a)オルガノシラン類、アルミニウムアルコキシド類、チタンアルコキシド類、ジルコニウムアルコキシド類及びそれらの部分縮合物からなる群から選ばれる1種類以上の化合物、(b)アルミニウム錯体、チタン錯体及びジルコニウム錯体からなる群から選ばれる1種類以上の金属錯体、及び(c)有機溶媒を含有する組成物に、水を添加することなく、前記組成物を基材に塗布した後、前記有機溶媒を蒸発させる被膜の形成方法。
請求項（抜粋）：
(a)オルガノシラン類、アルミニウムアルコキシド類、チタンアルコキシド類、ジルコニウムアルコキシド類及びそれらの部分縮合物からなる群から選ばれる1種類以上の化合物、(b)アルミニウム錯体、チタン錯体及びジルコニウム錯体からなる群から選ばれる1種類以上の金属錯体、及び(c)有機溶媒を含有する組成物に、水を添加することなく、前記組成物を基材に塗布した後、前記有機溶媒を蒸発させることを特徴とする被膜の形成方法。
IPC (5件)：
C09D183/04 ,  C09D183/02 ,  C09D185/00 ,  G02B 1/10 ,  G02B 1/11
FI (5件)：
C09D183/04 ,  C09D183/02 ,  C09D185/00 ,  G02B 1/10 Z ,  G02B 1/10 A
Fターム (24件)：
2K009AA02 ,  2K009AA15 ,  2K009CC42 ,  2K009CC45 ,  2K009DD02 ,  2K009EE02 ,  4J038DL021 ,  4J038DL031 ,  4J038DM021 ,  4J038FA241 ,  4J038GA01 ,  4J038GA07 ,  4J038GA09 ,  4J038GA13 ,  4J038JA16 ,  4J038JC32 ,  4J038JC38 ,  4J038KA04 ,  4J038KA06 ,  4J038NA03 ,  4J038NA04 ,  4J038NA11 ,  4J038NA19 ,  4J038PA18
引用特許：
審査官引用 (6件)
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