透明導電膜形成用組成物及び透明導電膜の形成方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田勝広 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-255783
公開番号（公開出願番号）：特開平9-082137
出願日： 1995年09月08日
公開日（公表日）： 1997年03月28日
要約：

【要約】【課題】透明導電膜の形成が容易であると共に、微細パターンの形成も容易である透明導電膜形成用組成物及び透明導電膜の形成方法。【解決手段】加熱によって酸化物となるインジウム化合物、加熱によって酸化物になる錫化合物、放射線崩壊性樹脂及び液媒体とを含むことを特徴とする透明導電膜形成用組成物、及び該透明導電膜形成用組成物を耐熱性基板に塗工し、乾燥成膜する工程、形成された被膜をパターン状に放射線露光する工程、露光部を除去現像する工程、及び現像物を加熱処理する工程を含むことを特徴とする透明導電膜の形成方法。

請求項（抜粋）：

加熱によって酸化物となるインジウム化合物、加熱によって酸化物になる錫化合物、放射線崩壊性樹脂及び液媒体とを含むことを特徴とする透明導電膜形成用組成物。

IPC (3件)：

H01B 5/14 , H01B 13/00 503 , C09K 3/16 101

FI (3件)：

H01B 5/14 A , H01B 13/00 503 B , C09K 3/16 101 A

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開平2-109207
特開昭61-184532
特開昭63-293539

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