特許
J-GLOBAL ID:200903067043806796

露光装置及びデバイス製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 立石 篤司
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2001007740
公開番号(公開出願番号):WO2002-021583
出願日: 2001年09月06日
公開日(公表日): 2002年03月14日
要約:
SMIFポッド(28)の搬出入ポート(22A,22B)からマスクステージ(RST)に至るマスク搬送経路の途中に、マスクを複数枚ストック可能でかつ出し入れが可能なバッファ(116)が配置されている。また、マスク搬送系(32)は、搬出入ポート(22A,22B)とバッファ(116)とマスクステージRSTとの三者間でマスクを搬送する。SMIFポッド(28)内に収納されて装置内に搬入されたマスクを搬送系(32)がバッファ内に順次搬入することにより、マスクを最大限収容しておくことができる。従って、露光に必要な十分な枚数のマスクを装置内に常時持たせることが可能になる。また、この場合、搬送系が、搬出入ポートとバッファとマスクステージとの三者間でマスクを搬送するので、オペレータの手作業によるマスクコンテナの交換作業は不要となる。
請求項(抜粋):
マスクステージ上に載置されたマスクのパターンを基板に転写する露光装置本体と; 前記露光装置本体を収容するとともに、密閉型のマスクコンテナの搬出入ポートが少なくとも1つ設けられたチャンバと; 前記搬出入ポートから前記マスクステージに至るマスク搬送経路の途中に配置され、前記マスクを複数枚ストック可能でかつ出し入れが可能なバッファと; 前記搬出入ポートと前記バッファと前記マスクステージとの三者間で前記マスクを搬送するマスク搬送系と;を備える露光装置。
IPC (4件):
H01L21/027 ,  B65G49/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/68
FI (6件):
H01L21/30 503E ,  B65G49/00 A ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/68 A ,  H01L21/30 514D ,  H01L21/30 514E

前のページに戻る