特許

J-GLOBAL ID：200903067048917944

基板搬送装置、露光装置、並びにデバイス製造方法

発明者： 佐藤 圭 ,  堀内 貴史
出願人/特許権者： 株式会社蔵王ニコン ,  株式会社ニコン
代理人 (4件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-416714
公開番号（公開出願番号）：特開2005-136364
出願日： 2003年12月15日
公開日（公表日）： 2005年05月26日
要約：

【課題】 液浸法に基づく露光処理の前に、基板に液体が付着するのを防止することができる基板搬送装置を提供する。【解決手段】 基板搬送装置Hは、投影光学系PLと液体LQを介した露光処理を行う露光処理部EXに対して、基板Pを搬入する第1搬送機構H1と、基板Pを露光処理部EXから搬出する第2搬送機構H2と、第1搬送機構H1と第1搬送機構H1が搬送する基板Pとの少なくとも一方に対し、第2搬送機構H2と第2搬送機構H2が搬送する基板Pとの少なくとも一方からの液体の飛散を抑制する飛散抑制機構110とを備える。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

投影光学系と液体を介した露光処理を行う露光処理部に対して、基板を搬入する第1搬送機構と、 前記基板を前記露光処理部から搬出する第2搬送機構と、 前記第1搬送機構と該第1搬送機構が搬送する基板との少なくとも一方に対し、前記第2搬送機構と前記第2搬送機構が搬送する基板との少なくとも一方からの前記液体の飛散を抑制する飛散抑制機構とを備えることを特徴とする基板搬送装置。

IPC (3件)：

H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  H01L21/68

FI (5件)：

H01L21/30 502J ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/68 A ,  H01L21/30 514C ,  H01L21/30 515D

Fターム (16件)：

5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031FA12 ,  5F031MA13 ,  5F031MA23 ,  5F031MA27 ,  5F031NA18 ,  5F031PA23 ,  5F046AA21 ,  5F046BA05 ,  5F046CD01 ,  5F046CD04 ,  5F046DA07

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 国際公開第99/49504号パンフレット