特許

J-GLOBAL ID：200903067065823120

有機物処理装置

発明者： 下村 則雄 ,  西村 則哉 ,  井奥 克則 ,  大谷 光吉
出願人/特許権者： 三洋電機株式会社
代理人 (1件)： 岡田 敬
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-123809
公開番号（公開出願番号）：特開平8-318248
出願日： 1995年05月23日
公開日（公表日）： 1996年12月03日
要約：

【要約】【構成】処理槽1底部を加熱する第1ヒータ4と空気層3を加熱する第2ヒータ6とを備え、第1ヒータ4と第2ヒータ6を別々に制御する有機物処理装置。【効果】処理槽内を微生物が活性化する最適温度に維持して、有機物処理能力を向上させることができる。

請求項（抜粋）：

有機物を収納し、分解処理を行う処理槽と、該処理槽内の有機物が堆積される位置に対応する処理槽外面に装着され、処理槽内を加熱する第1ヒータと、前記処理槽内の有機物より上方位置に対応する処理槽外面に装着され、処理槽内を加熱する第2ヒータとを備えた有機物処理装置。

IPC (2件)：

B09B 3/00 ZAB ,  C05F 11/00

FI (2件)：

B09B 3/00 ZAB D ,  C05F 11/00

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 厨芥処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-108332   出願人：三洋電機株式会社
• 特開平4-238886