特許
J-GLOBAL ID：200903067066507184
プラズマ洗浄法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 喜三郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-224167
公開番号（公開出願番号）：特開平5-062957
出願日： 1991年09月04日
公開日（公表日）： 1993年03月12日
要約：
【要約】【目的】 安全で、長時間の洗浄処理でも再汚染もなく、かつ重金属汚染も充分に洗浄しきれる新しいプラズマ洗浄法を提供する。【構成】 プラズマ洗浄法に関し、(1) アルゴンガスまたはヘリュウムガスと水素ガスとの混合ガスをプラズマ化し、該プラズマガスに半導体基板を曝すこと、および(2)ハロゲンガスまたはハロゲン化合物ガスと酸素ガスとの混合ガスをプラズマ化し、該プラズマガスに半導体基板を曝すこと。
請求項（抜粋）：
アルゴンガスまたはヘリュウムガスと水素ガスとの混合ガスをプラズマ化し、該プラズマガスに半導体基板を曝す事を特徴とするプラズマ洗浄法。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/302
