特許

J-GLOBAL ID：200903067066790447

基板処理装置

発明者： 杉本 憲司 ,  大谷 正美
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-152161
公開番号（公開出願番号）：特開平8-321456
出願日： 1995年05月25日
公開日（公表日）： 1996年12月03日
要約：

【要約】【目的】 処理液中の成分が塊状になって基板に供給されることを回避して均一性を向上する。【構成】 基板保持手段に保持された基板にレジスト液を供給するノズル6と、レジスト液を貯留する処理液貯留タンク7とを処理液供給用のチューブ8を介して接続し、そのチューブ8を外嵌するようにコイル状に導電線41を設けるとともに、その導電線41に電源42によって通電し、チューブ8内に、レジスト液の流動方向に向かう磁束を生じさせ、レジスト液中の磁性成分がチューブ8に帯電した静電気によりチューブ8の内周壁面側に向かうことを阻止する。

請求項（抜粋）：

基板を保持する基板保持手段と、前記基板保持手段に保持された基板に処理液を供給するノズルと、処理液を貯留する処理液貯留手段と、前記ノズルと前記処理液貯留手段とを接続する処理液供給配管とを備えた基板処理装置において、前記処理液供給配管にコイル状に導電線を設けるとともに、その導電線に通電する電源とを備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/304 341 ,  B05C 11/08

FI (4件)：

H01L 21/30 564 C ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/304 341 M ,  B05C 11/08