特許

J-GLOBAL ID：200903067078374180

ギ酸の製造方法

発明者： 碇屋 隆雄 ,  フィリップ ジー ジェソップ ,  野依 良治
出願人/特許権者： 新技術事業団 ,  碇屋 隆雄
代理人 (1件)： 西澤 利夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-271535
公開番号（公開出願番号）：特開平7-173098
出願日： 1994年11月04日
公開日（公表日）： 1995年07月11日
要約：

【要約】【構成】 第VIII族遷移金属錯体と塩基性物質の存在下に、超臨界状態にある二酸化炭素と水素とを反応させる。【効果】 毒性の低い原料を用い、高い反応速度でのギ酸製造が可能となる。また、溶媒を使用しないため分離操作も容易である。

請求項（抜粋）：

超臨界状態にある二酸化炭素と水素とを反応させることを特徴とするギ酸の製造方法。

IPC (4件)：

C07C 53/02 ,  B01J 31/26 ,  C07C 51/00 ,  C07B 61/00 300