特許
J-GLOBAL ID:200903067080673712

ポジ型感放射線性組成物

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-216050
公開番号(公開出願番号):特開2002-031891
出願日: 2000年07月17日
公開日(公表日): 2002年01月31日
要約:
【要約】【課題】サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を得る。【解決手段】下記一般式(1)および一般式(2)で示される構造単位を含む重合体、および放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。【化1】(ここでXは炭素数1から6のアルキル基、ハロゲン元素またはシアノ基のいずれかを表し、Aは酸素と3級炭素で結合しており、芳香環を含有する有機基を表す。)【化2】(ここでYは炭素数1から6のアルキル基、水素原子、ハロゲン元素またはシアノ基のいずれかを表し、一般式(1)のXが炭素数1から6のアルキル基であるとき、Bは2級または3級アルコール性ヒドロキシ基を含有する炭素数2から16の有機基を表し、一般式(1)のXがハロゲン元素またはシアノ基のいずれかであるとき、Bは1級、2級または3級アルコール性ヒドロキシ基を含有する炭素数1から16の有機基を表す。)
請求項(抜粋):
下記一般式(1)および一般式(2)で示される構造単位を含む重合体、および放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。【化1】(ここでXは炭素数1から6のアルキル基、ハロゲン元素またはシアノ基のいずれかを表し、Aは酸素と3級炭素で結合しており、芳香環を含有する有機基を表す。)【化2】(ここでYは炭素数1から6のアルキル基、水素原子、ハロゲン元素またはシアノ基のいずれかを表し、一般式(1)のXが炭素数1から6のアルキル基であるとき、Bは2級または3級アルコール性ヒドロキシ基を含有する炭素数2から16の有機基を表し、一般式(1)のXがハロゲン元素またはシアノ基のいずれかであるとき、Bは1級、2級または3級アルコール性ヒドロキシ基を含有する炭素数1から16の有機基を表す。)
IPC (7件):
G03F 7/039 601 ,  C08F220/16 ,  C08F220/42 ,  C08K 5/00 ,  C08L 33/14 ,  C08L 33/22 ,  H01L 21/027
FI (7件):
G03F 7/039 601 ,  C08F220/16 ,  C08F220/42 ,  C08K 5/00 ,  C08L 33/14 ,  C08L 33/22 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (31件):
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AB20 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BF08 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  4J002BG071 ,  4J002EB006 ,  4J002EN136 ,  4J002EQ016 ,  4J002EV296 ,  4J002GP03 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL09P ,  4J100AL09Q ,  4J100AM05P ,  4J100BA02Q ,  4J100BB01P ,  4J100BC43P ,  4J100BC43Q ,  4J100CA04 ,  4J100JA38

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