特許

J-GLOBAL ID：200903067084056971

口腔用組成物

発明者： 小川 由華 ,  渡邊 行幸
出願人/特許権者： サンスター株式会社
代理人 (1件)： 青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-340079
公開番号（公開出願番号）：特開平6-183938
出願日： 1992年12月21日
公開日（公表日）： 1994年07月05日
要約：

【要約】【目的】 使用に適する粘度およびチキソトロピー性を有し、経時的に安定な口腔用組成物の提供。【構成】 (1)(a)ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピルおよびメチルからなる群より選ばれる少なくとも1種の置換基および(b)3-アルコキシ-2-ヒドロキシプロポキシル基中のアルコキシの炭素数が8〜12および14〜18の混合置換基を有する非イオン性の疎水化セルロースエーテルポリマーと、(2)カルボキシメチルセルロースと、(3)非イオン性界面活性剤とを配合した口腔用組成物を開示している。

請求項（抜粋）：

(1)(a)ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピルおよびメチルからなる群より選ばれる少なくとも1種の置換基および(b)アルコキシ基が炭素数8〜12と14〜18のものが混合した基である3-アルコキシ-2-ヒドロキシプロポキシ基を有する非イオン性の疎水化セルロースエーテルポリマーと、(2)カルボキシメチルセルロースと、(3)非イオン性界面活性剤とを配合したことを特徴とする口腔用組成物。