特許

J-GLOBAL ID：200903067095661346

構造体の形成方法

発明者： 臼井 隆寛
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-032283
公開番号（公開出願番号）：特開2001-219400
出願日： 2000年02月09日
公開日（公表日）： 2001年08月14日
要約：

【要約】【課題】種々の材料の構造体を、肉厚が薄く、複雑で微細な形状、かつ簡便に形成する。【解決手段】中間基材301上に一回目の成膜302を行う。ノズルからのエアロゾルの噴出は連続して行われる。二回目の成膜303を行う。ノズルからのエアロゾルの噴出は間欠する。成膜される部分とされない部分ができ。段がついた形状になる。三回目の成膜304を行う。二回目に成膜された部分の一部に成膜されるようにエアロゾルの噴出を制御する。中間基材301を除去する。階段状の構造物305が形成できる。

請求項（抜粋）：

すくなくとも構造体の材料の微粒子を作成する工程、前記微粒子をキャリアガス中にエアロゾル化する工程、前記エアロゾルを中間基材に吹きつける工程, 前記中間基材を除去する工程を含むことを特徴とする構造体の形成方法。

IPC (3件)：

B81C 1/00 ,  B01J 19/00 ,  C23C 26/00

FI (3件)：

B81C 1/00 ,  B01J 19/00 K ,  C23C 26/00 B

Fターム (25件)：

4G075AA24 ,  4G075AA27 ,  4G075AA30 ,  4G075BB03 ,  4G075BB08 ,  4G075BB10 ,  4G075BC06 ,  4G075BD11 ,  4G075BD26 ,  4G075CA05 ,  4G075CA51 ,  4G075CA57 ,  4G075FB02 ,  4G075FB04 ,  4K044AA11 ,  4K044AB02 ,  4K044BA06 ,  4K044BA08 ,  4K044BA12 ,  4K044BA13 ,  4K044BB04 ,  4K044BB10 ,  4K044CA23 ,  4K044CA29 ,  4K044CA62