特許

J-GLOBAL ID：200903067100734772

微細構造体の製造方法、液体吐出ヘッドの製造方法および液体吐出ヘッド

発明者： 久保田 雅彦 ,  檜山 亘
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (3件)： 金田 暢之 ,  伊藤 克博 ,  石橋 政幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-201805
公開番号（公開出願番号）：特開2004-042389
出願日： 2002年07月10日
公開日（公表日）： 2004年02月12日
要約：

【課題】安価、精密であり、また信頼性も高い液体吐出ヘッド及び該ヘッドの製造方法を提供すること。【解決手段】基板上に、熱架橋したポジ型感光性材料層(第1のポジ型感光材料層)と第2のポジ型感光性材料層を形成し、まず、第2のポジ型感光性材料層にパターンを形成した後、第1のポジ型感光性材料層にパターンを形成する。ついで、その上に流路壁を形成するネガ型樹脂を積層し、吐出孔を該ネガ型樹脂層に形成した後ポジ型感光材料層を除去する。この際に、第1のポジ型感光材料として、メタクリル酸単位が2〜30重量%であり、分子量5000〜50000であるメタクリル酸を含むメタクリル系共重合体組成物とする電離放射線分解型ポジレジストとし、第2のポジ型感光性材料層が、ポリメチルイソプロペニルケトンを主成分とする電離放射線分解型ポジレジストとすることで達成される。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板上に、熱架橋したポジ型感光性材料層(第1のポジ型感光材料層)を形成し、その上に、感光波長域が第1のポジ型感光材料層と異なる第2のポジ型感光性材料層を形成し、まず、第2のポジ型感光性材料層の所望の領域のみを分解反応させた後現像し、該第2のポジ型感光性材料層にパターンを形成した後、第1のポジ型感光性材料層の所定の領域を分解反応させた後現像し、前記第1のポジ型感光性材料層にパターンを形成する、ポジ型感光材料層の上と下のパターンを異ならせる微細構造体の製造において、 第1のポジ型感光材料がメタクリル酸エステルを主成分し、熱架橋因子としてメタクリル酸を含むメタクリル系共重合体組成物とする電離放射線分解型ポジレジストであり、メタクリル酸単位が2〜30重量%かつ共重合体の分子量が5000〜50000であり、 第2のポジ型感光性材料層が、ポリメチルイソプロペニルケトンを主成分とする電離放射線分解型ポジレジストである ことを特徴とする微細構造体の製造方法。

IPC (5件)：

B41J2/16 ,  B41J2/05 ,  B81C1/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/26

FI (5件)：

B41J3/04 103H ,  B81C1/00 ,  G03F7/004 511 ,  G03F7/26 511 ,  B41J3/04 103B

Fターム (25件)：

2C057AF34 ,  2C057AF93 ,  2C057AG77 ,  2C057AP02 ,  2C057AP37 ,  2C057AP47 ,  2C057AQ04 ,  2C057BA04 ,  2C057BA13 ,  2H025AA03 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BF02 ,  2H025BF12 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025DA13 ,  2H025DA20 ,  2H096AA30 ,  2H096BA11 ,  2H096EA02 ,  2H096KA03 ,  2H096KA06