特許
J-GLOBAL ID：200903067108919143
水素分離部材の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
落合 健
, 仁木 一明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-361643
公開番号（公開出願番号）：特開2004-188358
出願日： 2002年12月13日
公開日（公表日）： 2004年07月08日
要約：
【課題】水素分離部材の製造工程数を少なくして製造能率を向上させる。【解決手段】水素分離部材1は,水素を選択的に透過させる金属製水素分離膜2と,水素を通過させる複数の細孔3を持つ多孔質基材4とを有する。その製造に当り,レジストシート6の一面に前記水素分離膜2を形成する,レジストシート6を被照射体とするX線リソグラフィを行って多孔質基材4のネガティブモデル12を得る,ネガティブモデル4の,各細孔3回りの周壁5に対応する凹部11に電鋳によって金属15を充填する,ネガティブモデル12の各細孔3に対応する部分10を除去して金属15よりなる多孔質基材4を得る,といった手段を用いる。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
水素を選択的に透過させる金属製水素分離膜(2)と,その水素分離膜(2)を支持し,且つ水素を通過させる複数の細孔(3)を持つ多孔質基材(4)とを有する水素分離部材(1)を製造するに当り,レジストシート(6)の一面に前記水素分離膜(2)を形成する工程と,前記レジストシート(6)を被照射体とする,X線リソグラフィおよびX線ドライエッチングの一方を行って,複数の前記細孔(3)に対応する部分(10)を残置され,且つ各細孔(3)回りの周壁(5)に対応する部分を除去された,前記多孔質基材(4)のネガティブモデル(12)を得る工程と,前記ネガティブモデル(12)の,各細孔(3)回りの周壁(5)に対応する凹部(11)に電鋳によって金属(15)を充填する工程と,前記ネガティブモデル(12)の各細孔(3)に対応する部分(10)を除去して前記金属(15)よりなる前記多孔質基材(4)を得る工程,とを用いることを特徴とする水素分離部材の製造方法。
IPC (5件)：
B01D67/00
, B01D53/22
, B01D69/12
, B01D71/02
, C01B3/56
B01D67/00 500
, B01D53/22
, B01D69/12
, B01D71/02 500
, C01B3/56 Z
4D006GA41
, 4D006MA06
, 4D006MA09
, 4D006MA31
, 4D006MA40
, 4D006MB04
, 4D006MC02
, 4D006MC02X
, 4D006NA31
, 4D006NA33
, 4D006NA50
, 4D006PA01
, 4D006PB66
, 4G140FA06
, 4G140FB09
, 4G140FC01
, 4G140FE06
