特許
J-GLOBAL ID：200903067120746980

無溶剤型合成皮革の製造方法

発明者：
上林 貢

上林 貢 について

, 
榎本 雅穗

榎本 雅穗 について


出願人/特許権者：
セイコー化成株式会社

セイコー化成株式会社 について


代理人 (1件)： 田中 浩
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-367955
公開番号（公開出願番号）：特開2007-169819
出願日： 2005年12月21日
公開日（公表日）： 2007年07月05日
要約：
【課題】 常温下で有機溶剤や水を希釈剤として用いることなく、無溶剤で得た配合物を用いて、環境問題、シックハウス症候群等の規制に適合した、車輌、家具等に使用できる後エンボス加工可能な高耐久性を有する合成皮革を提供する。【解決手段】 常温で液状のポリカーボネートジオールと単鎖のアルキレングリコールとからなる混合物(A)、常温で液状のMDI化合物(B)、アミン系触媒(C)とからなり、上記混合物(A)とMDI化合物(B)の混合比率を、混合物(A)中のヒドロキシル基1モルに対するMDI化合物(B)中のイソシアネート基を0.8〜1.2モルとして、常温下で瞬間混合機にて均一混合を行い、この混合物を離型紙上に流延し、加熱後基布と貼り合せることで、後エンボス加工可能な高耐久性を有する合成皮革を得る。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
常温で液状のポリカーボネートジオールと単鎖のアルキレングリコールとからなる混合物(A)、常温で液状のMDI化合物(B)、アミン系触媒(C)とからなり、上記混合物(A)と上記常温で液状のMDI化合物(B)の混合比率が、上記混合物(A)中のヒドロキシル基1モルに対して、上記MDI化合物(B)中のイソシアネート基を0.8〜1.2モルである上記混合物(A)と上記MDI化合物(B)を、常温下で瞬間混合機にて均一混合を行ったのち、この混合物を離型紙上に流延し、加熱後基布と貼り合せることを特徴とする後エンボス加工可能な無溶剤型高耐久性合成皮革の製造方法。
IPC (1件)：
D06N 3/00
FI (1件)：
D06N3/00
Fターム (10件)：
4F055AA01 ,  4F055AA18 ,  4F055BA12 ,  4F055EA02 ,  4F055EA04 ,  4F055EA22 ,  4F055EA31 ,  4F055FA20 ,  4F055GA11 ,  4F055GA20
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (3件)

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