特許

J-GLOBAL ID：200903067123726610

ポジ型レジスト組成物とそれを用いた微細パターン形成方法

発明者： 石井 渡 ,  加藤 真也 ,  松浦 広明 ,  吉本 洋 ,  鈴木 信雄
出願人/特許権者： 富士ハントエレクトロニクステクノロジ-株式会社 ,  富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-167530
公開番号（公開出願番号）：特開平9-015852
出願日： 1995年07月03日
公開日（公表日）： 1997年01月17日
要約：

【要約】【課題】 従来よりも基板との密着性が高く、エッチングにおける加工精度を向上させ、より微細なパターンを忠実に基板に転写することが可能なレジスト組成物とそれを用いたエッチングの方法による微細パターン形成方法を提供する。【解決手段】 (1) アルカリ可溶性樹脂、(2) キノンジアジド化合物、(3) 有機リン酸化合物、(4) フェニレンジアミン化合物およびその誘導体、2-アミノ-1-フェニルエタノール、N-フェニルジエタノ-ルアミン、N-フェニルエタノールアミン、N-エチルジエタノールアミン、N-エチルエタノールアミンおよびその誘導体のうち少なくとも1種類を含む。

請求項（抜粋）：

(1)アルカリ可溶性樹脂(2)キノンジアジド化合物(3)有機リン酸化合物(4)フェニレンジアミン化合物およびその誘導体、2-アミノ-1-フェニルエタノール、N-フェニルジエタノ-ルアミン、N-フェニルエタノールアミン、N-エチルジエタノールアミン、N-エチルエタノールアミンおよびその誘導体のうち少なくとも1種類を含むことを特徴とするポジ型感光性組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/029 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/029 ,  H01L 21/30 502 R