特許

J-GLOBAL ID：200903067128947054

プラズマ補助化学的エッチング処理に使用される電極

発明者： ジョージ・スタインバーグ
出願人/特許権者： ヒューズ・エアクラフト・カンパニー
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-101414
公開番号（公開出願番号）：特開平7-094495
出願日： 1994年05月16日
公開日（公表日）： 1995年04月07日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、多孔性材料を使用しないで廉価に製造することのできるプラズマ補助化学的エッチング処理用電極を得ることを目的とする。【構成】 内部に上部表面から底部表面まで垂直に延びている空洞61を有する円筒状の外部部材45と、この外部部材45の空洞61内に配置され上部表面から外側表面に貫通したダクトシステム79, 81を有する内部部材47とを備え、外部部材45の内側表面の下部部分57と内部部材47の外側表面の下部部分69がそれらの間に垂直方向に延在する環状のギャップ77を形成しており、内部部材47のダクトシステム79, 81を通り、内部部材と外部部材の間のギャップ77を通って基板25上にガス源からガスが供給されることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

上部表面および底部表面によって境界が定められた外側表面と、内部で前記上部表面から前記底部表面まで垂直に延在している空洞を定める内側表面とを有する外部部材と、上部表面および底部表面によって境界が定められた外側表面を有し、前記上部表面から前記外側表面に貫通されている穴で構成されたダクトシステムを有する内部部材とを備え、前記内部部材は、前記外部部材の内側表面の下部部分および前記内部部材の外側表面の下部部分がそれらの間に前記内部部材および外部部材の前記底部表面に向かって垂直方向に延在するギャップを形成するように前記外部部材の前記空洞内に入れ子状に配置され、さらに前記内部部材の前記ダクトシステムを通り、前記内部部材と外部部材の間の前記ギャップを通って基板上にガスを流すガス源手段を具備していることを特徴とする基板をエッチングするためにプラズマ補助化学的エッチング処理用電極。

IPC (4件)：

H01L 21/3065 ,  H01J 27/08 ,  H01J 37/08 ,  C23F 4/00

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-242924
  
• 特開昭61-073331
  
• 特開昭60-012734
  
• 特開平2-148835