特許

J-GLOBAL ID：200903067136370572

強誘電体薄膜形成用塗布溶液および強誘電体薄膜

発明者： 池田 憲彦 ,  篠田 智隆 ,  小松 敏 ,  山田 欣司
出願人/特許権者： ジェイエスアール株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-256560
公開番号（公開出願番号）：特開2003-068729
出願日： 2001年08月27日
公開日（公表日）： 2003年03月07日
要約：

【要約】【課題】 白金、イリジウム、酸化イリジウムなどの基板上に良好なヒステリシス特性および飽和特性が得られる強誘電体薄膜形成が可能な強誘電体薄膜形成用組成物を得る。【解決手段】 (A)下記一般式(1)で表される有機溶剤R1O(CHCH3CH2O)nR2 ・・・・・(1)(R1およびR2は、それぞれ独立して水素原子、炭素数1〜4のアルキル基またはCH3CO-から選ばれる1価の有機基を示し、R1およびR2の少なくとも1つは水素原子以外の基であり、nは1〜2の整数を表す。)および(B)有機金属化合物とを含有し、プロピレングリコールの含有量が10000ppm以下であることを特徴とする強誘電体薄膜形成用塗布溶液。

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(1)で表される有機溶剤R1O(CHCH3CH2O)nR2 ・・・・・(1)(R1およびR2は、それぞれ独立して水素原子、炭素数1〜4のアルキル基またはCH3CO-から選ばれる1価の有機基を示し、R1およびR2の少なくとも1つは水素原子以外の基であり、nは1〜2の整数を表す。)および(B)有機金属化合物とを含有し、プロピレングリコールの含有量が10000ppm以下であることを特徴とする強誘電体薄膜形成用塗布溶液。

IPC (5件)：

H01L 21/316 ,  H01G 4/33 ,  H01L 27/105 ,  H01L 35/24 ,  H01L 41/193

FI (6件)：

H01L 21/316 B ,  H01L 21/316 P ,  H01L 35/24 ,  H01L 27/10 444 C ,  H01G 4/06 102 ,  H01L 41/18 102

Fターム (17件)：

5E082AB01 ,  5E082FG03 ,  5E082FG32 ,  5E082LL25 ,  5F058BA11 ,  5F058BC03 ,  5F058BF46 ,  5F058BH01 ,  5F083FR00 ,  5F083FR01 ,  5F083GA06 ,  5F083JA15 ,  5F083JA17 ,  5F083JA38 ,  5F083JA43 ,  5F083PR23 ,  5F083PR33