特許
J-GLOBAL ID：200903067137798347
抵抗体、熱処理盤、及び熱処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-083779
公開番号（公開出願番号）：特開平11-283727
出願日： 1998年03月30日
公開日（公表日）： 1999年10月15日
要約：
【要約】【課題】 熱処理盤の温度を全体にわたって均一に維持することのできる抵抗体や熱処理盤、或いは熱処理装置を提供する。また、装置を複雑化することなく高精度の温度管理が可能な抵抗体や熱処理盤、熱処理装置を提供する。【解決手段】 熱処理盤58を加熱するヒータ61として金属セラミックス混合体を含む材料から形成された、温度上昇すると自己の抵抗値が低下して温度上昇分を相殺する自己制御機能を備えたヒータ61を採用した。その結果、熱処理盤58の温度を全体にわたって均一に維持することができる。
請求項（抜粋）：
温度上昇に伴い抵抗値が低下する材料から形成されており、温度が上昇した部分の抵抗値が低下して全体として発熱量が均一になることを特徴とする抵抗体。
IPC (3件)：
H05B 3/10
, H05B 3/14
, H01L 21/027
H05B 3/10 Z
, H05B 3/14 B
, H01L 21/30 566
