特許
J-GLOBAL ID：200903067138978187
研磨用組成物
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐々木 宗治 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-021197
公開番号（公開出願番号）：特開平7-228863
出願日： 1994年02月18日
公開日（公表日）： 1995年08月29日
要約：
【要約】【目的】 シリコン基板上に形成された各種酸化膜の層間絶縁膜を、高能率かつ高品質で平坦化することのできる研磨用組成物を得ること。【構成】 本発明に係る研磨用組成物は、水と研磨材及び研磨促進剤からなり、研磨促進剤がヒドラジン化合物からなるものである。
請求項（抜粋）：
水と研磨材及び研磨促進剤からなり、前記研磨促進剤がヒドラジン化合物からなることを特徴とする研磨用組成物。
IPC (3件)：
C09K 3/14 550
, B24B 37/00
, H01L 21/304 321
