特許
J-GLOBAL ID：200903067142870463
スパッタリングターゲットおよびその製造方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大場 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-119546
公開番号（公開出願番号）：特開平6-330302
出願日： 1993年05月21日
公開日（公表日）： 1994年11月29日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、膜の組成のばらつきを低減し得る均一な成分のターゲットを提供することを目的とする。【構成】 基体と、基体の厚さ方向に延在し、一部が基体表面に露出した埋設体からなるスパッタリングターゲット。
請求項（抜粋）：
基体と、基体の厚さ方向に延在し、一部が基体表面に露出した埋設体からなることを特徴とするスパッタリングターゲット。
IPC (2件)：
前のページに戻る
