特許
J-GLOBAL ID:200903067151220846
ビスフェノールF及びノボラック型フェノール樹脂の併産方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-027924
公開番号(公開出願番号):特開平6-128183
出願日: 1993年02月17日
公開日(公表日): 1994年05月10日
要約:
【要約】【目的】 高純度ビスフェノールF及び/又は汎用ビスフェノールFと、ノボラック型フェノール樹脂及び/又は高分子量ノボラック型フェノール樹脂との併産方法を提供する。【構成】 (1)酸触媒の存在下、フェノールとホルムアルデヒドとを反応させ、得られた反応生成物から酸触媒、水及び未反応のフェノールを除去して粗ビスフェノールFを得る調製工程、(2)該粗ビスフェノールFの少なくとも一部を蒸留することによって、留出物として2核体含量が95重量%以上である高純度ビスフェノールFを得、缶出物として2核体含量が15面積%以下であるノボラック型フェノール樹脂を得る蒸留工程、(3)該高純度ビスフェノールFの少なくとも一部と該粗ビスフェノールFの残りとを混合して汎用ビスフェノールFを得る混合工程、(4)酸触媒の存在下、該ノボラック型フェノール樹脂の少なくとも一部とホルムアルデヒドとを反応させて高分子量ノボラック型フェノール樹脂を得る高分子化工程、を含む製造プロセス。
請求項(抜粋):
(1)酸触媒の存在下、フェノールとホルムアルデヒドとを反応させ、得られた反応生成物から酸触媒、水及び未反応のフェノールを除去して粗ビスフェノールFを得る調製工程、(2)該粗ビスフェノールFを蒸留することによって、留出物として2核体含量が95重量%以上である高純度ビスフェノールFを得、缶出物として2核体含量が15面積%以下であるノボラック型フェノール樹脂を得る蒸留工程を含むことを特徴とする高純度ビスフェノールF及びノボラック型フェノール樹脂の併産方法。
IPC (4件):
C07C 39/16
, C07C 37/74
, C08G 8/04
, C07B 61/00 300
引用特許:
審査官引用 (11件)
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特開昭58-177928
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特開平4-149145
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特開昭55-124730
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特開平4-036254
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特開昭63-238032
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特表昭62-501780
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特開昭62-267314
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特開昭62-277419
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特開昭62-275121
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特開昭60-133017
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特開昭54-116081
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