特許

J-GLOBAL ID：200903067161635823

光学多層膜並びにその成膜方法及びその成膜装置

発明者： 是永 継博 ,  内田 真司 ,  黒川 英雄 ,  沢田 亮人
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-266118
公開番号（公開出願番号）：特開平6-337310
出願日： 1993年10月25日
公開日（公表日）： 1994年12月06日
要約：

【要約】【目的】 高い膜厚精度を要求される光学多層膜を広い面積にて製造する技術を提供する。【構成】 成膜が行われる基板59を回転ド-ム58上にセットし、真空蒸着源からの蒸発粒子56により、基板59上に光学多層膜を成膜する際、回転ド-ム58を、回転ドームの外周部に約120°間隔で配設された位置調整機構511によって、回転中心軸から偏心することなく回転させる様に回転案内することにより、従来、回転ド-ム58の円周方向に保持された基板間で発生していた膜厚分布をも低減し、光学特性ばらつきの少ない光学多層膜を広い面積で得る。

請求項（抜粋）：

TiO2と、SiO2を交互に積層したバンドパスフィルタであって、前記バンドパスフィルタを構成する各層の膜厚精度を±1%以下に構成した光学多層膜。

IPC (4件)：

G02B 5/28 ,  C23C 14/08 ,  C23C 14/10 ,  G01B 11/02