特許
J-GLOBAL ID:200903067162553120
逆浸透を使用する高純度の水の製造
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
佐藤 一雄 (外2名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-508620
公開番号(公開出願番号):特表平11-510432
出願日: 1996年08月06日
公開日(公表日): 1999年09月14日
要約:
【要約】供給流(2)を形成し、そのpHを塩基性状態に調節することによって、高い純度の水を製造する。塩基性溶液を第1逆浸透膜モジュール(10)の高圧側(12)に導入して、第1透過液と第1保持液とを生成する。第1透過液のpHを酸性状態に調節し、次いで透過液を第2逆浸透膜(40)の高圧側(30)に導入し、第2逆浸透膜(40)は第2保持液と第2透過液とを生成し、第2透過液は1〜10メグオーム-cmより大きい範囲の抵抗を有する。
請求項(抜粋):
下記の工程、 (a) 精製すべき水供給流を準備し; (b) 前記水供給流のpHを塩基性水溶液に調節して、第1の弱くイオン化した物質の平衡を推進させて、塩基性溶液中でイオン化させ; (c) 前記塩基性水溶液を第1逆浸透膜モジュールの高圧側に導入し; (d) 水を前記第1逆浸透膜に通過させて、その中で濃縮された前記第1の弱くイオン化した物質からのイオンをその中に有する第1保持液と、前記第1の弱くイオン化した物質からのイオンが減少した第1透過液とを形成し; (e) 前記第1透過液のpHを酸性水溶液に調節して、第2の弱くイオン化した物質の平衡を推進させて、酸性溶液中でイオン化させ; (f) 前記酸性水溶液を第2逆浸透膜の高圧側に移し;そして (g) 前記酸性水溶液の少なくとも一部分を前記第2逆浸透膜に通過させて、前記酸性溶液中でイオン化した前記第2の弱くイオン化した物質のイオンを含有する第2保持液と、1〜10メグオーム-cmより大きい範囲の抵抗を有する第2透過液とを形成することによって、前記酸性水溶液をさらに精製する;を含んでなる、4〜10メグオーム-cmの抵抗を有する精製された水を製造することができる、水から溶解物質を除去することによって水を精製する方法。
IPC (3件):
C02F 1/44
, B01D 61/04
, B01D 61/58
FI (3件):
C02F 1/44 H
, B01D 61/04
, B01D 61/58
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