特許

J-GLOBAL ID：200903067166363686

均熱装置

発明者： 宮崎 真二 ,  好永 功夫 ,  山蔭 久明
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 児玉 俊英
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-152227
公開番号（公開出願番号）：特開2001-328124
出願日： 2000年05月24日
公開日（公表日）： 2001年11月27日
要約：

【要約】【課題】 定盤表面を均熱に加熱できるとともに、冷却機能を有する均熱装置を得ることにより、被成形物の加工時間の短縮を図る。【解決手段】 定盤1の被成形物が載置される面と反対側の面に例えば一体となって配置され、冷却媒体が流通する冷却構造体8を設ける。冷却構造体8に形成された水などの冷却媒体10を流通させる流路9を形成する。冷却構造体8は供給口11から冷却媒体10が導入され、流路9を流通し排出口12から排出される。

請求項（抜粋）：

被成形物が載置される定盤内部に流通路が形成され、上記流通路内部に作動液が封入された均熱装置において、上記定盤の被成形物が載置される面と反対側の面に配置され、冷却媒体が流通する冷却構造体を備えたことを特徴とする均熱装置。

IPC (4件)：

B29C 35/16 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/68

FI (4件)：

B29C 35/16 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/68 N ,  H01L 21/302 B

Fターム (29件)：

4F203AH33 ,  4F203AH42 ,  4F203AK02 ,  4F203DA14 ,  4F203DB01 ,  4F203DC28 ,  4F203DD01 ,  4F203DD10 ,  4F203DM03 ,  4F203DM04 ,  4F203DM07 ,  5F004AA01 ,  5F004BB18 ,  5F004BB25 ,  5F004BB26 ,  5F004CA04 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031HA37 ,  5F031HA38 ,  5F031MA30 ,  5F031PA11 ,  5F045BB02 ,  5F045EJ03 ,  5F045EJ06 ,  5F045EJ09 ,  5F045EJ10 ,  5F045EM02 ,  5F045EM09

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 均熱装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-263171   出願人：三菱電機株式会社
• 基板保持装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-132147   出願人：日本発条株式会社
• 簡易型の製造方法及び製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-090551   出願人：蛇の目ミシン工業株式会社
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-279549   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 基板処理装置および基板搬送装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-338053   出願人：ティーディーケイ株式会社
• 載置台構造及び処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-168296   出願人：東京エレクトロン株式会社