特許
J-GLOBAL ID:200903067171461130

ダイヤモンド状被膜基板およびその形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西野 卓嗣
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-188084
公開番号(公開出願番号):特開平7-041386
出願日: 1993年07月29日
公開日(公表日): 1995年02月10日
要約:
【要約】【目的】 電気かみそり刃等の基板とダイヤモンド状被膜との密着性を向上させ、ダイヤモンド状被膜の剥離発生を低減させたダイヤモンド状被膜基板およびその形成方法を提供する。【構成】 真空チャンバ8内に配置されたNi、若しくはAlを主成分とする基板、又はステンレス鋼からなる基板7に向けて不活性ガスのイオンを放射すると同時に、蒸発源13からRu原子を前記基板7に向けて放射することによって、前記基板7の表面にRuからなる中間層を形成する第1工程と、前記真空チャンバ8内に供給した炭素を含む反応ガスをプラズマ化し、該プラズマを前記中間層に向けて放射することによって、該中間層の表面にダイヤモンド状被膜を形成する第2工程と、を順次行いダイヤモンド状被膜をRuを主成分とする中間層を介して前記基板7上に設ける。
請求項(抜粋):
ダイヤモンド状被膜をRuを主成分とする中間層を介してNi、若しくはAlを主成分とする基板上、又はステンレス鋼からなる基板上に設けたことを特徴とするダイヤモンド状被膜基板。
IPC (2件):
C30B 29/04 ,  C30B 25/18
引用特許:
審査官引用 (3件)

前のページに戻る