特許
J-GLOBAL ID：200903067176814937
半導体装置の製造過程で発生する汚染粒子の測定装置、測定方法及びその分析方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
服部 雅紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-134993
公開番号（公開出願番号）：特開平8-327509
出願日： 1996年05月29日
公開日（公表日）： 1996年12月13日
要約：
【要約】【課題】 半導体装置の製造過程で発生する汚染粒子の測定装置、測定方法及びその分析方法を提供する。【解決手段】 本発明による汚染粒子の測定装置は原料ガスの流れを調節するレギュレータ10、第1ジャンクション11、第1フィルター12a、第1空気バルブ14a、テスト部分16、第2ジャンクション13、ガス圧減少器22、第3ジャンクション23、粒子計数器24、第2ポンプ20bとコンピューターシステム26、第3空気バルブ14c、フローメーター28、第2フィルター12b、第2空気バルブ14b、第4ジャンクション15、第3フィルター12c、インパクタ18及び第1ポンプ20aを具備する。本発明によれば、ガス運送システムと前記システムを構成するユーティリティ部分から発生される汚染粒子の構造と成分を分析しうる。従って、前記システムのGDS 自体とユーティリティ部分から発生される汚染粒子を管理しうる基準が備えられる。
請求項（抜粋）：
半導体製造装置に供給される原料ガスの流れを調節するレギュレータと、前記レギュレータに連結された第1ジャンクションと、前記第1ジャンクションに連結された第1フィルターと、前記第1フィルターに連結されたガスの流れを調節する第1空気バルブと、前記第1空気バルブに連結されたテスト部分と、前記テスト部分に連結された第2ジャンクションと、前記第2ジャンクションに連結されたガス圧減少器と、前記ガス圧減少器に連結された第3ジャンクションと、前記第3ジャンクションに連結された粒子計数器と、前記粒子計数器に連結された第2ポンプとコンピューターシステムと、前記第1ジャンクションに連結された第3空気バルブと、前記第3空気バルブに連結されたガスの流れを測定するフローメーターと、前記フローメーターに連結され、前記第3ジャンクションに連結された第2フィルターと、前記第2ジャンクションに連結されたガスを開閉する役割をする第2空気バルブと、前記第2空気バルブに連結された第4ジャンクションと、前記第4ジャンクションに連結された第3フィルターと、前記第4ジャンクションに連結されたインパクタと、前記インパクタに連結された第1ポンプを具備することを特徴とする半導体装置の製造過程で発生する汚染粒子の測定装置。
IPC (4件)：
G01N 1/02
, G01N 15/14
, H01L 21/02
, H01L 21/66
G01N 1/02 Q
, G01N 1/02 C
, G01N 15/14 Z
, H01L 21/02 Z
, H01L 21/66 Z
