特許

J-GLOBAL ID：200903067185141899

真空処理装置

発明者： 広木 勤 ,  阿部 正一
出願人/特許権者： 東京エレクトロン山梨株式会社
代理人 (1件)： 金本 哲男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-061253
公開番号（公開出願番号）：特開平6-252245
出願日： 1993年02月26日
公開日（公表日）： 1994年09月09日
要約：

【要約】【目的】 減圧雰囲気で被処理体を処理するにあたり、極めて高いスループットを実現するとともに、装置自体の汎用性も向上させる。【構成】 LCD用基板を収納したカセット9を大気中に配置する。カセット9と第2ロードロック室5との間では大気系搬送アーム7によって1度に2枚ずつのLCD用基板Pの搬送が行われる。第1ロードロック室2と第2ロードロック室5内には、複数のLCD用基板を保持するバッファ機構が設けられている。第1ロードロック室2内のバッファ機構51によって一旦保持されたLCD用基板は、搬送アーム41によって複数のプロセスチャンバ1a、1b、1cに適宜振り分けられて、夫々所定の処理がなされる。

請求項（抜粋）：

被処理体に処理を施す装置において、・減圧雰囲気下で被処理体に所定の処理を施す複数の真空処理室と、・前記各真空処理室に連結された第1の予備真空室と、・前記第1の予備真空室に連結された第2の予備真空室と、・前記第1の予備真空室内に設けられ、前記被処理体を第1の予備真空室と前記真空処理室及び第2の予備真空室との間で前記被処理体を搬送する真空系搬送機構と、・前記第1の予備真空室内に設けられ、前記被処理体を複数保持可能に構成されたバッファ機構と・前記第2の予備真空室内に設けられ、前記被処理体を複数保持可能に構成されたバッファ機構と、・前記第2の予備真空室内に設けられ、前記被処理体の位置合わせをする位置合わせ機構と、・大気中に位置する被処理体収納物と前記第2の予備真空室との間で1度に複数の前記被処理体を搬送する大気系搬送機構と、を具備したことを特徴とする、真空処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/68 ,  C23C 14/56 ,  H01L 21/285 ,  H01L 21/31

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭62-003902
  
• 特開平4-344208
  
• 特開平3-224913